ME-L采用專利消色差雙旋轉補償器設計，一次測量全穆勒矩陣元素，代表橢偏技術領域最高技術水平，可用于各向同性/異性薄膜、納米光柵的快速測量表征。

1、分析光譜寬,可擴至193-2500nm

2、超快測量時間，單點測量時間1-8s

3、超高測量精度，重復性精度高達0.005nm

4、五維樣件調制旋臺，并支持自定義多功能樣件臺

5、配置可視化調平+微光斑系統，支持消背反測量能力