1、該設(shè)備爐管可360度旋轉(zhuǎn)，管內(nèi)壁有石英擋片幫助粉料翻轉(zhuǎn)有助于燒結(jié)得更均勻； 2、可左右大角度傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間。 該款設(shè)備是全自動(dòng)Plasma增強(qiáng)CVD系統(tǒng)（PECVD）,系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)滑動(dòng)溫區(qū)，連續(xù)可控溫度以及Plasma強(qiáng)度等，配備真空系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)低壓條件下的實(shí)驗(yàn)，針對(duì)低溫石墨烯、碳納米管生長(zhǎng)等。PECVD系統(tǒng)能使整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象。