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武漢頤光科技有限公司是國內專業從事高端橢偏儀測量設備研發、制造與銷售的高新技術企業。公司由多位具有二十多年偏振光學測量經驗的專家聯合創辦，與華中科技大學緊密合作，是國內橢偏光學儀器領域最規模和技術優勢的團隊。
公司2013年9月注冊成立于武漢東湖國家自主創新示范區，立足光谷，面向全球，為科研和工業用戶提供納米光學測量儀器、軟件服務等綜合解決方案，產品廣泛應用于集成電路、光通訊、平板顯示、光學鍍膜、LED照明、光伏太陽能、生物醫藥、化學等眾多領域。
頤光科技充分利用區域人才優勢，立志成為中國最優秀的納米光學儀器設備研發創新平臺和產業化基地，立志成為國內外泛半導體領域企業與研究機構值得信賴的合作伙伴。
Mapping系列光譜橢偏儀采用行業前沿創新技術，配置全自動Mapping測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現薄膜全基片膜厚以及光學參數自定義繪制化測量表征分析
1、全基片橢偏繪制化測量解決方案
2、支持產品設計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量
3、配置Mapping模塊，全基片自定義多點定位測量能力
4、豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力
SE-VE采用光譜橢偏測量技術緊湊集成化設計思路，一鍵快速測量分析，極致便捷用戶操作體驗，可用于各種微納米級光學薄膜快速測量表征。
1、緊湊集成化設計，輕便、體積小
2、超快測量時間，單點測量時間0.5-5s
3、軟件簡約設計，極致用戶操作體驗
4、一鍵快速測量分析，人機交互設計，使用便捷
5、豐富的材料數據庫和算法模型庫
ME-L采用專利消色差雙旋轉補償器設計，一次測量全穆勒矩陣元素，代表橢偏技術領域最高技術水平，可用于各向同性/異性薄膜、納米光柵的快速測量表征。
1、分析光譜寬,可擴至193-2500nm
2、超快測量時間，單點測量時間1-8s
3、超高測量精度，重復性精度高達0.005nm
4、五維樣件調制旋臺，并支持自定義多功能樣件臺
5、配置可視化調平+微光斑系統，支持消背反測量能力
