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邁納德微納技術有限公司成立于2009年,是國家高新技術企業。公司致力于國產鍍膜制備技術及設備的研發和生產，現主要產品包括：原子層沉積系統、在線光電測量系統，火焰噴涂設備以及等離子體相關設備，同時接受制作通用或客戶定制的納米涂層產品等。
公司的業務主要包括：制作通用納米涂層產品，生產通用納米涂層制備設備以及客戶定制的納米涂層產品以及批量化生產設備。使用 ALD 技術制備的薄膜具有非常好的厚度可控性和均勻性、保型性、無針孔度、以及致密性，可廣泛應用于微電子、生物醫用、光電、催化劑、儲能技術、太陽能有機光伏器件等。
已在國內外交付近300臺設備，最長使用客戶超過10年，設備均運行良好。公司與各用戶緊密配合，合作開發相關工藝。
反應腔體：橫流模式的單腔反應腔/噴淋模式的雙腔反應腔
襯底規格：4-12寸單片；三維復雜襯底/粉末與顆粒/多孔及高縱深比材料；RT-400 oC，控制精度±0.5 oC@單腔；RT-500 oC，控制精度±0.5 oC@雙腔
閥門：Swagelok專用ALD閥門，耐熱溫度200 oC
前驅體源：液態、固態、氣態以及臭氧源，容器標準50 mL揮發式容器和100 mL載氣輔助式容器，其他規格可定制；最高可配備8路前驅體源
載氣：N2或者Ar，質量流量控制器
管路源容器加熱溫度：配可拆卸加熱套，RT-250 oC，控制精度±0.5 oC
真空系統：油泵、防腐油泵、干泵可選
壓力傳感器：檢測范圍1000-2.3*10-4 Torr
真空管路：烘烤至200℃，且真空泵前級配置熱阱，加熱溫度300℃
控制：觸摸屏+PLC
機柜：可移動鋁型材框架，不銹鋼面板
最小尺寸：720*700*1000mm
最大尺寸：1000*1000*1000 mm
選配：臭氧發生器/粉末沉積盤/手套箱耦合/QCM；尾氣處理裝置
