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離子清洗濺射儀ISC150+RPS20
進(jìn)口品牌高性能旋片泵產(chǎn)生一個潔凈的<1 Pa的真空壓強(qiáng),采用高品質(zhì)恒功率磁控濺射電源,確保恒定沉積速率。磁控陰極的使用也有效減少等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷。特別適用于追求更高分辨率SEM樣品及溫度敏感樣品的噴金。原位等離子清洗源(選配件),用于清洗SEM樣品表面有機(jī)污染物,同時有等離子活化作用,使噴金顆粒度更加細(xì)膩。